1.UE中的视频视频着色器编程-需要重新编译内核自己生成UE
2.打造 Material 字体样式主题 | 实现篇
3.畅谈React material-ui的样式方案
4.Cesium专栏-空间分析之地形等高线（附源码下载）
5.UGUI源码阅读之Mask
6.(五) Geometries
UE中的着色器编程-需要重新编译内核自己生成UE
全球图形学领域的教育和研究者，东汉书院，源码源码致力于提供深入的视频视频技术教学和视频，帮助用户构建图形学知识体系。源码源码在这里，视频视频用户能获得全面的源码源码央视php代理源码代码知识，以及背后故事的视频视频理解，避免盲目学习。源码源码书院提供深入剖析UE的视频视频课程，帮助有兴趣自研引擎的源码源码用户。UE源码版本为4.，视频视频为了简化学习，源码源码我们将切换至移动端渲染模式。视频视频
具体操作如下：
1. 修改Engine/Source/Runtime/Engine/Classes/Engine/EngineTypes.h文件，源码源码添加名为MSM_Alice的视频视频ShadingModel。
2. 修改Engine/Source/Runtime/Engine/Private/Materials/HSLSMaterialTranslator.cpp文件，在GetMaterialEnvironment函数中添加代码。
3. 修改Engine/Source/Runtime/Engine/Private/Materials/MaterialShader.cpp文件，扩展GetShadingModelString函数。
4. 编写shader代码，修改Engine/Shaders/Private/MobileBasePassPixelShader.usf文件，将材质球颜色固定，完成PostProcessing操作。最后创建材质球，选择Alice作为ShadingModel。
经过上述操作，UE将渲染出一个独特的材质球。完成此步骤后，用户将获得一个UE难以相信的渲染成果，仿佛在对UE表达不信任与讽刺。接下来，书院将提供更多高级内容，帮助用户参考UE，自行开发引擎。
东汉书院关注引擎底层技术和商业化信息，适合具有一定基础的用户。关注“图形之心”公众号了解企业信息和动态，“内核观察”公众号则提供独立的咨询与文章。书院致力于提供深入的技术教学和视频，帮助用户构建图形学知识体系，提升对底层技术的理解，最终实现自研引擎的目标。
打造 Material 字体样式主题 | 实现篇
使用 Material 主题自定义组件，以确保观感与品牌一致，涉及颜色、字体和形状参数。从版本1.1.0开始，Android中的Material设计组件库支持实现Material主题。主题包含颜色、字体和形状，允许调整以获得多样组件变体，同时保持其核心结构和易用性。
重点讨论字体样式主题的实现。Material Design提供种应用于应用中所有文字的样式，每种样式对应设计术语和字体样式属性，例如"textAppearanceBody1"。每种样式的属性有默认基准值，如文字尺寸、字符间距、大小写等。这些属性由Material组件用于设置组件文本元素样式，常见于TextView或其组合。
字体样式属性应用在布局和组件样式中。更多使用细节和多种样式化方案优先级，霍夫线变化源码查阅Nick Butcher的文章。在MDC主题中，这些属性映射到样式上，如TextAppearance。熟悉AppCompat或平台中已知的TextAppearance样式，MDC增加了此内容，允许根据主题变换不同文字样式。
选择字体样式是设计师的责任，了解每种样式及其应用场景至关重要。Material Design提供字体样式生成器，集成了Google Font，并可导出代码。字体样式资源由字体和TextAppearance样式组成。Android中可用资源及其声明注意事项详细说明。
XML和可下载字体的使用，字体存放于res/font目录下，通过@font/符号引用。可使用本地XML字体或可下载字体，Android Studio内置向导帮助使用可下载字体。从API 开始，Android支持使用可变字体，了解更多信息请查阅Rebecca Franks的文章。
TextAppearance样式在Android上等同于Material Design字体样式。自定义样式时推荐分离关注点，创建单一数据来源。这些样式支持与TextView相同的属性和值。字符间距计算遵循简单公式，将Sketch中的tracking值转换为合适的em值。MaterialTextView和行高API 中添加android:lineHeight属性，MDC通过MaterialTextView提供兼容性，无需直接使用。
额外字体样式，如设计系统要求超过种样式，可在Android中轻松实现，通过声明样式属性完成。覆写应用主题中的字体样式，设置优雅处理浅色和深色调色板，减少重复。在应用基本主题中覆写所需字体样式属性。MDC组件响应主题级字体样式覆写。
了解MDC组件如何响应主题级样式覆写，查看按钮等组件使用的文本标签样式。通过交互式Android项目构建Material主题，修改颜色、字体样式、形状值创建自定义主题。MDC开发者文档更新，包含设计术语和属性默认值，例如按钮文档的“Anatomy and key properties”部分。查阅MDC源码获取默认样式实现细节。
确保自定义组件支持样式主题化，使用MDC属性复用，保持一致性。自定义View中使用MDC属性，复用attr name，引用MDC主题样式的属性作为值。实现和分享已创建的字体样式主题，提交错误报告和功能需求至GitHub。使用下方二维码向我们提交反馈。
畅谈React material-ui的样式方案
Google 在 年提出了 material design 的设计理念，极具颠覆性，在国外非常受欢迎。各类前端框架也都出现了material design风格的百度权重源码组件库，其中 React 最受欢迎的 material design 风格组件库非 material-ui 莫属。mui-org/material-ui 这个开源库目前收获了 star，npm 的周下载量达到了 万，数据摆在那儿，也不需要继续“吹捧” material-ui 了。本文主要是带大家一起领略一下 material-ui 的样式方案。
material-ui 将自己的样式方案独立发布成一个 npm 包，叫 @material-ui/styles。它拥抱了CSS-in-JS，据他们的文档，也尝试过使用 LESS 等其他方案，但发现有明显的局限性，最后拥抱了 CSS-in-JS。官方文档宣称material-ui 样式方案有以下优点。
使用 @material-ui/styles 的样式方案主要支持三种形式的API，但底层的代码和逻辑是一致的。下面是代码示范，通过 makeStyles API，传入一个描述CSS的对象（下面简称css对象），就能得到一个自定义的Hook，通常命名为 useStyles。在函数式组件内调用这个Hook，得到一个对象，通常命名为classes。最后，将classes 对象的“对应值” 赋给 组件的 className 属性，就成功定制了这个组件的样式。细节：classes对象的 root 属性 对应的就是 css对象的 root 属性。下面是代码示范：
使用 styled API 就能采用类似于 styled-components 的语法，当然还是有区别的 —— styled-components 用的是 es6 tagged template literals 而 material-ui styled API 返回函数的参数是css对象。使用 Higher-order component API 接收一个 css 对象返回一个高阶组件函数。material-ui 的 Higher-order component API 不仅能用于函数组件也能用于类组件，但在 Hook 大行其道后这个 API 慢慢退出舞台了。接下来都只使用 makeStyles API 做后面的代码示范。
material-ui 上述的API 在底层都会生成一些“随机的html class 名称” 以及 相应的 css 规则。以 上面的 makeStyles demo 为例，会生成以下 css 规则插入到 html head。自定义样式按钮 对应的 html 片段如下。小结：上述这三种形式的API都能定制化组件的样式。查看源码就能发现其实 styled 和 withStyles 底层都调用了makeStyles API。
在底层原理是动态生成 css 规则插入到 html 中。这三个API的使用方法中，最关键的都是两部分：查看 css 对象的构成和使用。接下来将细聊 css 对象的构成和使用。嵌套选择器：上面的代码可以得到以下效果。实际生成的 css 规则如下。
根据传入值动态调整：上述的 css 对象并不一定是单纯的简单对象。可以将函数传递给makeStyles (“插值”)，这样一来根据组件的属性可以变换生成的样式的值。 此函数可以运用于样式规则的级别，也可以放在 CSS 属性级别。例1和例2展示了如何根据组件属性动态调整样式。
覆盖样式 —— classes 属性：接下来换个角度，假如你使用 material-ui 样式方案创作了一些组件（提供了默认的样式）并作为公用组件分享给其他模块使用，如何让调用端可自定义这些组件的样式呢？上面提到的根据传入值动态调整 是一种解决方案，但很明显这是一种只允许微调的方案；而且这个方案的实现通常比较繁琐。假如以下是我们设计的一个组件代码。那么我在 Parent 中如何自定义这个 Nested 组件的 span 样式呢？我们可以利用classes属性 覆盖样式。上面的代码中，我们往 useStyles 这个hook中传入 props 作为参数 （其实是为了将 classes 传进去）。而在 Parent 的代码中，我们给 Nested 传入 classes 属性（这个命名是个规范，必须遵守）。tp5资讯源码最终的效果生成的 html 中 span 的 class 值是 ‘makeStyles-label-2 my-label’ —— 注意 my-label 的顺序在后面，因此它的样式会覆盖前面 makeStyles-label-2 的样式。
总结：你所在前端项目使用的样式方案还是 LESS, SASS 甚至是 css 吗？material-ui 样式解决方案是不是对你有所冲击或者启示呢？欢迎留言评论。如果觉得文章质量不错，请积极地点赞、喜欢、收藏三连！p.s. material-ui 样式方案中还有其他内容，如主题、JSS 插件等，个人感觉难度比较小，文档也易懂，（或者过于生僻，很少使用），本文就不做介绍了，如果有读者强烈要求写某个部分，我再继续补充。
Cesium专栏-空间分析之地形等高线（附源码下载）
Cesium是一款面向三维地球和地图的世界级开源JavaScript产品，提供高效、准确、美观的Web应用开发包，支持多平台，易于使用。等高线是地形图上表示高程相等的闭合曲线，垂直投影并按比例绘制，标注数字表示海拔。
在Cesium中，等高线通过修改Globe的Material属性实现。具体步骤包括：初始化地球，调用全球地形服务，开启深度测试，设置等高线参数，创建等高线样式Material，并赋值给Globe。
进一步，通过创建具备地形渲染样式的Material，可实现地形高程的渲染效果。同时显示两种效果，通过进一步探索与实践，可以获得更丰富的视觉体验。
对于Cesium中等高线的实现与应用，有兴趣的朋友可以直接私聊，获取源码下载链接，费用为8.8元。感谢关注Cesium在空间分析和地形等高线领域的应用。
UGUI源码阅读之Mask
Mask主要基于模版测试来进行裁剪，因此先来了解一下unity中的模版测试。
Unity Shader中的模版测试配置代码大致如上
模版测试的伪代码大概如上
传统的渲染管线中，模版测试和深度测试一般发生在片元着色器（Fragment Shader）之后，但是现在又出现了Early Fragment Test，可以在片元着色器之前进行。
Mask直接继承了UIBehaviour类，同时继承了ICanvasRaycastFilter和IMaterialModifier接口。
Mask主要通过GetModifiedMaterial修改graphic的Material。大致流程：
1.获取当前Mask的层stencilDepth
2.StencilMaterial.Add修改baseMaterial的模板测试相关配置，并将其缓存
3.StencilMaterial.Add设置一个unmaskMaterial，用于最后将模板值还原
MaskableGraphic通过MaskUtilities.GetStencilDepth计算父节点的Mask层数，然后StencilMaterial.Add修改模板测试的配置。
通过Frame Debugger看看具体每个batch都做了什么。先看第一个，是Mask1的m_MaskMaterial，关注Stencil相关的数值，白色圆内的云课堂源码 云架构stencil buffer的值设置为1
这个是Mask2的m_MaskMaterial，根据stencil的计算公式，Ref & ReadMask=1，Comp=Equal，只有stencil buffer & ReadMask=1的像素可以通过模板测试，即第一个白色圆内的像素，然后Pass=Replace，会将通过的像素写入模板值（Ref & WriteMask=3），即两圆相交部分模板值为3
这个是RawImage的Material，只有模板值等于3的像素可以通过模板测试，所以只有两个圆相交的部分可以写入buffer，其他部分舍弃，通过或者失败都不改变模板值
这是Mask2的unmaskMaterial，将两个圆相交部分的模板值设置为1，也就是还原Mask2之前的stencil buffer
这是Mask1的unmaskMaterial，将第一个圆内的模板值设置为0，还有成最初的stencil buffer
可以看到Mask会产生比较严重的overdraw。
2.drawcall和合批
每添加一个mask，一般会增加2个drawcall（加上mask会阻断mask外和mask内的合批造成的额外drawcall），一个用于设置遮罩用的stencil buffer，一个用于还原stencil buffer。
如图，同一个Mask下放置两个使用相同的RawImage，通过Profiler可以看到两个RawImage可以进行合批
如图，两个RawImage使用相同的，它们处于不同的Mask之下，但是只要m_StencilValue相等，两个RawImage还是可以进行合批。同时可以看到Mask1和Mask1 (1)，Mask2和Mask2 (1)也进行了合批，说明stencilDepth相等的Mask符合合批规则也可以进行合批。
StencilMaterial.Add会将修改后的材质球缓存在m_List中，因此调用StencilMaterial.Add在相同参数情况下将获得同一个材质球。
(五) Geometries
本文主要介绍以下内容：
专栏代码地址： github.com/ue/three....
本文代码地址： github.com/ue/three....
在three.js概念里，mesh是由几何体Geometry和材质Material组成的，在源码Mesh.js可以看到之间的关系：
Mesh = Geometry + Material
为什么会有Mesh三角网的概念呢？
首先我们要回顾下图形渲染管线了。
所以，从上图可以理解：
Geometry: 就是在准备顶点数据，对应Vertex处理过程； Mesh: 就是对应的Triangle三角面处理过程； Material：对应Fragment片元处理过程，对每个三角面片进行着色、贴图等等处理；
几何体，就是在准备一堆顶点数据，主要包括顶点数据、颜色数据、UV贴图数据、法向量数据等等；简单的说，几何体就是数据源，如果你对如何通过三角面片拼接成几何体非常了解，完全可以自己组织数据，不幸的是，这样操作不仅麻烦，而且也是非常困难的事情。所以，three.js内置常用的几何体，供大家直接使用，然后控制Position、Scale、Rotation、visible等空间属性，来操控物体。
Three.js一共有 种内置的图元。
简单整个例子，了解下使用流程，其他几何体触类旁通，参考three.js官网即可。
参考代码：
执行命令：
运行后，场景中多一个Line。
运行后，多出一个三角锥：
为什么即存在Geometry，又存在BufferGeometry?
说白了，Geometry更适合于人来理解，自定义的地方比较多，但性能比较低一些；
BufferGeometry更适合计算机来理解，自定义的地方很少，适合对图形学非常了解的人使用，但是性能很高。
内置的几何体，都是一些非常基础的模型，可以使用这些基础模型组装成，搭积木的方式，组成非常复杂的场景。
目前国内，数字产业化搞得如火如荼，各个行业都要数字化，所以数据的来源也是非常复杂的，多种多样的，比如：BIM行业的Revit数据模型、CAD图纸，GIS行业的各种数据要素、倾斜摄影、tiles，可以参考CesiumLab的数据转换这张图。
最终都会将各行各业的数据进行转换，轻量化，瓦片化等等技术手段，传输给Three.js的BufferGeometry，进行渲染；
或者将数据通过Datasmith的插件，转换数据转换成Unreal Engine的资产进行渲染。
后期会针对熟悉的行业数据进行一一分析，探讨应用场景。
图形学分为三大部分，几何、渲染、动画。
直播源码网站，自定义平台界面，完成各项内容更改
直播源码网站，自定义平台界面，完成各项内容更改
添加依赖：
引入MaterialButton库，拓展基础Button功能，包括圆角、描边、icon设置及按压水波纹等，满足日常需求。
背景处理：
1.2版本后，MaterialButton可自定义背景色，通过app:backgroundTint属性设置，背景为纯色时适用。渐变色背景需自定义drawable，使用android:background属性。
注意：若使用android:background设置背景，需将backgroundTint设为@empty，否则背景不生效。
阴影调整：
默认带阴影，可通过指定style为Widget.MaterialComponents.Button.UnelevatedButton去掉阴影，实现扁平化视图。
关于theme：
MDC1.1.0后，使用MaterialButton可能遇到闪退问题，需设置theme为MaterialComponents。
解决方法：
1. AndroidManifest配置全局theme
2. activity层面配置特定theme
3. 控件局部配置theme
完成直播源码网站自定义平台界面，实现各项内容更改。欢迎探索更多功能，关注后续文章。
游戏引擎随笔 0x：UE5.x Nanite 源码解析之可编程光栅化（下）
书接上回。
在展开正题之前，先做必要的铺垫，解释纳尼特(Nanite)技术方案中的Vertex Reuse Batch。纳尼特在软光栅路径实现机制中，将每个Cluster对应一组线程执行软光栅，每ThreadGroup有个线程。在光栅化三角形时访问三角形顶点数据，但顶点索引范围可能覆盖整个Cluster的个顶点，因此需要在光栅化前完成Cluster顶点变换。纳尼特将变换后的顶点存储于Local Shared Memory(LDS)中，进行组内线程同步，确保所有顶点变换完成，光栅化计算时直接访问LDS，实现软光栅高性能。
然而，在使用PDO(Masked)等像素可编程光栅化时，纳尼特遇到了性能问题。启用PDO或Mask时，可能需要读取Texture，根据读取的Texel决定像素光栅化深度或是否被Discard。读取纹理需计算uv坐标，而uv又需同时计算重心坐标，增加指令数量，降低寄存器使用效率，影响Active Warps数量，降低延迟隐藏能力，导致整体性能下降。复杂材质指令进一步加剧问题。
此外，当Cluster包含多种材质时，同一Cluster中的三角形被重复光栅化多次，尤其是材质仅覆盖少数三角形时，大量线程闲置，浪费GPU计算资源。
为解决这些问题，纳尼特引入基于GPU SIMT/SIMD的Vertex Reuse Batch技术。技术思路如下：将每个Material对应的三角形再次分为每个为一组的Batch，每Batch对应一组线程，每个ThreadGroup有个线程，正好对应一个GPU Warp。利用Wave指令共享所有线程中的变换后的顶点数据，无需LDS，减少寄存器数量，增加Warp占用率，提升整体性能。
Vertex Reuse Batch技术的启用条件由Shader中的NANITE_VERT_REUSE_BATCH宏控制。
预处理阶段，纳尼特在离线时构建Vertex Reuse Batch，核心逻辑在NaniteEncode.cpp中的BuildVertReuseBatches函数。通过遍历Material Range，统计唯一顶点数和三角形数，达到顶点去重和优化性能的目标。
最终，数据被写入FPackedCluster，根据材质数量选择直接或通过ClusterPageData存储Batch信息。Batch数据的Pack策略确保数据对齐和高效存储。
理解Vertex Reuse Batch后，再来回顾Rasterizer Binning的数据：RasterizerBinData和RasterizerBinHeaders。在启用Vertex Reuse Batch时，这两者包含的是Batch相关数据，Visible Index实际指的是Batch Index，而Triangle Range则对应Batch的三角形数量。
当Cluster不超过3个材质时，直接从FPackedCluster中的VertReuseBatchInfo成员读取每个材质对应的BatchCount。有了BatchCount，即可遍历所有Batch获取对应的三角形数量。在Binning阶段的ExportRasterizerBin函数中，根据启用Vertex Reuse Batch的条件调整BatchCount，表示一个Cluster对应一个Batch。
接下来，遍历所有Batch并将其对应的Cluster Index、Triangle Range依次写入到RasterizerBinData Buffer中。启用Vertex Reuse Batch时，通过DecodeVertReuseBatchInfo函数获取Batch对应的三角形数量。对于不超过3个材质的Cluster，DecodeVertReuseBatchInfo直接从Cluster的VertReuseBatchInfo中Unpack出Batch数据，否则从ClusterPageData中根据Batch Offset读取数据。
在Binning阶段的AllocateRasterizerBinCluster中，还会填充Indirect Argument Buffer，将当前Cluster的Batch Count累加，用于硬件光栅化Indirect Draw的Instance参数以及软件光栅化Indirect Dispatch的ThreadGroup参数。这标志着接下来的光栅化Pass中，每个Instance和ThreadGroup对应一个Batch，以Batch为光栅化基本单位。
终于来到了正题：光栅化。本文主要解析启用Vertex Reuse Batch时的软光栅源码，硬件光栅化与之差异不大，此处略过。此外，本文重点解析启用Vertex Reuse Batch时的光栅化源码，对于未启用部分，除可编程光栅化外，与原有固定光栅化版本差异不大，不再详细解释。
CPU端针对硬/软光栅路径的Pass，分别遍历所有Raster Bin进行Indirect Draw/Dispatch。由于Binning阶段GPU中已准备好Draw/Dispatch参数，因此在Indirect Draw/Dispatch时只需设置每个Raster Bin对应的Argument Offset即可。
由于可编程光栅化与材质耦合，导致每个Raster Bin对应的Shader不同，因此每个Raster Bin都需要设置各自的PSO。对于不使用可编程光栅化的Nanite Cluster，即固定光栅化，为不降低原有性能，在Shader中通过两个宏隔绝可编程和固定光栅化的执行路径。
此外，Shader中还包括NANITE_VERT_REUSE_BATCH宏，实现软/硬光栅路径、Compute Pipeline、Graphics Pipeline、Mesh Shader、Primitive Shader与材质结合生成对应的Permutation。这部分代码冗长繁琐，不再详细列出讲解，建议自行阅读源码。
GPU端软光栅入口函数依旧是MicropolyRasterize，线程组数量则根据是否启用Vertex Reuse Batch决定。
首先判断是否使用Rasterizer Binning渲染标记，启用时根据VisibleIndex从Binning阶段生成的RasterizerBinHeaders和RasterizerBinData Buffer中获取对应的Cluster Index和光栅化三角形的起始范围。当启用Vertex Reuse Batch，这个范围是Batch而非Cluster对应的范围。
在软光栅中，每线程计算任务分为三步。第一步利用Wave指令共享所有线程中的Vertex Attribute，线程数设置为Warp的Size，目前为，每个Lane变换一个顶点，最多变换个顶点。由于三角形往往共用顶点，直接根据LaneID访问顶点可能重复，为确保每个Warp中的每个Lane处理唯一的顶点，需要去重并返回当前Lane需要处理的唯一顶点索引，通过DeduplicateVertIndexes函数实现。同时返回当前Lane对应的三角形顶点索引，用于三角形设置和光栅化步骤。
获得唯一顶点索引后，进行三角形设置。这里代码与之前基本一致，只是写成模板函数，将Sub Pixel放大倍数SubpixelSamples和是否背面剔除bBackFaceCull作为模板参数，通过使用HLSL 语法实现。
最后是光栅化三角形写入像素。在Virtual Shadow Map等支持Nanite的场景下，定义模板结构TNaniteWritePixel来实现不同应用环境下Nanite光栅化Pipeline的细微差异。
在ENABLE_EARLY_Z_TEST宏定义时，调用EarlyDepthTest函数提前剔除像素，减少后续重心坐标计算开销。当启用NANITE_PIXEL_PROGRAMMABLE宏时，可以使用此机制提前剔除像素。
最后重点解析前面提到的DeduplicateVertIndexes函数。
DeduplicateVertIndexes函数给每个Lane返回唯一的顶点索引，同时给当前Lane分配三角形顶点索引以及去重后的顶点数量。
首先通过DecodeTriangleIndices获取Cluster Local的三角形顶点索引，启用Cluster约束时获取所有Lane中最小的顶点索引，即顶点基索引。将当前三角形顶点索引（Cluster Local）减去顶点基索引，得到相对顶点基索引的局部顶点索引。
接下来生成顶点标志位集合。遍历三角形三个顶点，将局部顶点索引按顺序设置到对应位，表示哪些顶点已被使用。每个标志位是顶点的索引，并在已使用的顶点位置处设置为1。使用uint2数据类型，最多表示个顶点位。
考虑Cluster最多有个顶点，为何使用位uint2来保存Vertex Mask而非位？这是由于Nanite在Build时启用了约束机制（宏NANITE_USE_CONSTRAINED_CLUSTERS），该机制保证了Cluster中的三角形顶点索引与当前最大值之差必然小于（宏CONSTRAINED_CLUSTER_CACHE_SIZE），因此，生成的Triangle Batch第一个索引与当前最大值之差将不小于，并且每个Batch最多有个唯一顶点，顶点索引差的最大值为，仅需2个位数据即可。约束机制确保使用更少数据和计算。
将所有Lane所标记三个顶点的Vertex Mask进行位合并，得到当前Wave所有顶点位掩码。通过FindNthSetBit函数找出当前Lane对应的Mask索引，加上顶点基索引得到当前Lane对应的Cluster Local顶点索引。
接下来获取当前Lane对应的三角形的Wave Local的三个顶点索引，用于后续通过Wave指令访问其他Lane中已经计算完成的顶点属性。通过MaskedBitCount函数根据Vertex Mask以及前面局部顶点索引通过前缀求和得到当前Lane对应的Vertex Wave Local Index。
最后统计Vertex Mask所有位，返回总计有效的顶点数量。
注意FindNthSetBit函数，实现Lane与顶点局部索引（减去顶点基索引）的映射，返回当前Lane对应的Vertex Mask中被设置为1的位索引。如果某位为0，则返回下一个位为1的索引。如果Mask中全部位都设置为1，则实际返回为Lane索引。通过二分法逐渐缩小寻找索引范围，不断更新所在位置，最后返回找到的位置索引。
最后，出于验证目的进行了Vertex Reuse Batch的性能测试。在材质包含WPO、PDO或Mask时关闭Vertex Reuse Batch功能，与开启功能做对比。测试场景为由每颗万个三角形的树木组成的森林，使用Nsight Graphics进行Profiling，得到GPU统计数据如下：
启用Vertex Reuse Batch后，软光栅总计耗时减少了1.毫秒。SM Warp总占用率有一定提升。SM内部工作量分布更加均匀，SM Launch的总Warp数量提升了一倍。长短板Stall略有增加，但由于完全消除了由于LDS同步导致的Barrier Stall，总体性能还是有很大幅度的提升。
至此，Nanite可编程光栅化源码解析讲解完毕。回顾整个解析过程，可以发现UE5团队并未使用什么高深的黑科技，而是依靠引擎开发者强悍的工程实现能力完成的，尤其是在充分利用GPU SIMT/SIMD机制榨干机能的同时，保证了功能与极限性能的实现。这种能力和精神，都很值得我们学习。
UGUI源码介绍
本文提供对Unity UI系统（UGUI）源码的概览，内容主要来自官方文档。
UGUI主要由EventSystem和UI两部分构成。
EventSystem部分包含输入模块和射线投射器。输入模块用于配置事件系统的主要逻辑，提供不同平台的开箱即用选项，支持各类输入系统如触控、控制器、键盘和鼠标，并将事件分发至对应组件。射线投射器则用于检测事件位置，决定事件传递至的UI元素。
UI部分结构相对复杂，包含多个类和接口，如IMaterialModifier和IndexedSet等。IMaterialModifier接口允许修改用于渲染的Material，IndexedSet是一种结合List和Dictionary实现的自定义容器，提供快速移除和插入元素的功能，但牺牲了顺序和序列化的友好性。
总之，UGUI源码通过模块化设计和接口定义，为开发者提供了丰富的UI构建和事件处理能力。
